電化學 / 材料 / 儲能裝置測試

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  大電流恒電位/恒電流儀

  High Power Potentiostat/Galvanostat Analyzer

  XP

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  • 具XP40（±40A/±10V）、XP20（±20A/±20V）和 XP10（±10A/±40V）三款機型。
  • 所有儀器的合規電壓範圍均為±10V。
  • 可選購FRA/EIS：10µHz 至 500kHz。
  • 提供電流遮斷測試功能。
  • K 型熱電偶直接輸入連接插頭。

  
  XP 系列儀器非常適合需要大電流的應用，如電池研究、電解和燃料電池應用。該系列包括 XP40（±40A/±10V）、XP20（±20A/±20V）和 XP10（±10A/±40V）。每個儀器的施加電壓為 ±10V。 

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  金微電極

  Gold Microelectrode

  MF-2006

  • 金微電極(Au,Gold)
  • 直徑10 um
  • 管徑直徑3.5mm
  • 長度7cm

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  碳微電極

  Carbon Microelectrode

  MF-2007

  • 碳微電極(Carbon)
  • 直徑11±2 um
  • 管徑直徑3.5mm
  • 長度7cm

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  雙金工作電極

  Electrode - Dual gold working - crossflow

  MF-1002

  • 博層流通池用
  • 雙金工作電極(Dual gold working-crossflow)
  • 直徑3mm/each

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  銀工作電極(Ag)

  Silver Electrode (Ag) for voltammetry

  MF-2011

  • 銀工作電極(Ag)
  • 直徑 3 mm
  • 純度99.95%

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  雙銀工作電極

  Electrode - Dual silver working - crossflow

  MF-1008

  • 博層流通池用
  • 雙銀工作電極(Dual silver working-crossflow)
  • 直徑3mm/each

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  雙白金工作電極

  Electrode - Dual platinum working - crossflow

  MF-1012

  • 博層流通池用
  • 雙白金/鉑工作電極(Dual silver working-crossflow)
  • 直徑3mm/each

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  脈衝雷射沉積和熱蒸發系統

  PULSED LASER DEPOSITION AND THERMAL EVAPORATOR SYSTEM

  PLD-T

  多功能脈衝雷射沉積和熱蒸鍍系統 - PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統，可通過脈衝雷射沉積和熱蒸鍍技術沉積不同的材料。它可以將復雜的材料和晶體結構沉積到基底上，只需很少的設置。
  
  脈衝類射沉積技術可實現高效率、非熱消熔，並保持目標材料的化學計量。通過應用這種方法，可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

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  雙碳糊工作電極

  Electrode - Dual carbon paste working - crossflow

  MF-1004

  • 博層流通池用
  • 雙碳糊工作電極(Dual carbon paste-crossflow)
  • 直徑3mm/each
  • 需另外訂購碳糊（CPO，1 g，CF-1010)

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  單碳玻工作電極

  Electrode - Single glassy carbon working - radial flow

  MF-1095

  • 博層流通池用
  • 碳玻工作電極(Single glassy carbon working- radial flow )
  • 直徑3mm

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